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X射线光电子能谱仪阅读:1325

X-射线光电子能谱仪,是一种表面分析技术,主要用来表征材料表面元素及其化学状态。其基本原理是使用X-射线,如Al Ka =1486.6eV,与样品表面相互作用,利用光电效应,激发样品表面发射光电子,利用能量分析器,测量光电子动能(K.E),根据B.E=hv-K.E-W.F,进而得到激发电子的结合能(B.E)。

附件信息

  XPS: 1.快速氩离子刻蚀枪 AES: 1.快速氩离子刻蚀枪 2.能量损失谱 ,
  主要研究领域包括:(1)TiO2纳米光催化以及在空气和水净化方面的应用;(2)汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究;(3)纳米药物载体及靶向药物的研究;(4)纳米导电陶瓷薄膜材料的研究;(5)纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究;(6)纳米发光材料及纳米分析化学研究;(7)有机电致发光材料的表面化学研究;(8)纳米材料在香烟减毒净化上的应用研究;(9)无机纳米杀菌与抗菌材料及其在饮用水净化上的作用;(10)电解水制氧电极材料的研究

仪器类别

  03030707 /仪器仪表 /成份分析仪器
  指标信息: 主真空室:1×10-10 Torr XPS:0.5eV, AES: 分辨率:0.4%, 电子枪束斑:75nm , 灵敏度:1Mcps信噪比:大于70:1 角分辨:5°~90°. A1/Mg双阳极靶 能量分辨率:0.5eV ,灵敏度:255KCPS, 使用多通道检测器(MCD)

主要用途

  XPS:固体样品的表面组成分析,化学状态分析,取样讯息深度为~10nm以内. 功能包括:
  1. 表面定性与定量分析. 可得到小於10um 空间分辨率的X射线光电子能谱的全谱资讯.
  2. 维持10um以下的空间分辨率元素成分包括化学态的深度分析(角分辨方式,,氩离子或团簇离子刻蚀方式)
  3. 线扫瞄或面扫瞄以得到线或面上的元素或化学态分布.
  4. 成像功能.
  5. 可进行样品的原位处理 AES:1.可进行样品表面的微区选点分析(包括点分析,线分析和面分析) 2.可进行深度分析适合: 纳米薄膜材料,微电子材料,催化剂,摩擦化学,高分子材料的表面和界面研究

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