氩离子抛光仪阅读：369

　　1.减薄角度：+10o到-10o；

　　2离子枪束能量：0.1KeV~8 KeV；

　　3离子枪：双束聚焦离子枪，无耗件；

　　4.样品交换：样品快速更换。

　　氯离子抛光仪是一种表面处理设备，其原理是利用离了束在高速运动下撞击样品表面，去除表面凹凸不平的区域，从而实现抛光处理。氩离子束由一个离子源产生，通过加速电场加速到一定能量后，进入样品表面，发生碰撞并去除表面不平整的部分。

　　1.在操作氩离子抛光仪之前，务必熟悉仪器的操作手册和安全注意事项。

　　2.确保操作人员具备相关的培训和经验，以正确操作仪器并避免潜在的危险。

　　3.定期检查和维护仪器，确保其正常运行和安全性。

　　4.在抛光过程中，要注意保护眼睛和皮肤，避免直接暴露在离子束下。

　　5.对于不同类型的样品，可能需要进行适当的试验和优化，以确定最佳的抛光参数。

　　6.在处理易燃、易爆或有毒样品时，要采取相应的安全措施。

　　7.严格遵守实验室的安全规定和操作规程，确保工作环境的安全。

　　8.如果遇到任何异常情况或故障，应立即停止操作，并联系专业人员进行维修和处理。

　　1.样品准备

　　-选择合适的样品，并确保其表面干净、平整。

　　-根据需要，对样品进行切割、研磨或其他预处理步骤，以获得所需的形状和尺寸。

　　2.安装样品

　　-将样品固定在样品台上，确保其牢固稳定。

　　-使用适当的夹具或固定装置，以防止样品在抛光过程中移动或损坏。

　　3.选择抛光参数

　　-根据样品的性质和要求，选择合适的氙离子抛光参数，如离子束能量束流密度、抛光时间等.。这些参数可以通过仪器的控制面板或软件进行设置。

　　4.启动抛光过程

　　-关闭抛光室门，并确保安全联锁装置正常工作。

　　-启动氩离子源和真空泵，使抛光室内达到所需的真空度。

　　-逐渐增加离子束能量和束流密度，开始抛光过程。

　　5.监控抛光过程

　　-在抛光过程中，通过观察窗口或监控设备实时观察样品的表面形貌变化。

　　-根据需要，可以调整抛光参数以获得最佳的抛光效果。

　　6.结束抛光

　　-当达到所需的抛光时间或表面质量时，停止离子束发射。

　　-关闭氩离子源和真空泵，等待抛光室内压力恢复到大气压。

　　7.取出样品

　　-小心地打开抛光室门，取出样品。

　　-注意避免样品与其他物体碰撞或受到损伤。

　　8.样品后处理

　　-根据需要，对抛光后的样品进行清洗、干燥或其他后处理步骤.

　　-可以使用适当的溶剂或清洗方法去除表面的残留物。

大面积表面抛光，多层截面样品表面抛光，复合材料以及半导体、不导电样品的SEM样品制备。