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干涉膜厚仪主要由光源、分光器、反射器以及检测系统等组成。其中，光源可以是白炽灯或者激光，分光器则可以将光源分为两条不同的路径，一条是参考光路，另一条是待测光路。反射器则将待测物质的反射光聚焦到相应的检测器上，这样就可以完成对干涉膜厚度的测量。
1.非接触式测量
干涉膜厚仪采用光学方法无需直接接触被测物体，避免了测量过程中对样品的损伤，同时也提高了测量的准确性。
2.高精度
由于光学干涉现象对微小变化很敏感，干涉膜厚仪能够实现高精度的薄膜厚度测量，满足各种精密制造和科学研究的需求。
3.高灵敏度
能够检测到很微小的薄膜厚度变化，对于超薄膜的测量很适用。
4.广泛应用
适用于多种材料的薄膜厚度测量，包括半导体、光学元件、涂层、液晶显示器等。
干涉膜厚仪的工作原理主要基于光学干涉现象。当一束单色光照射在薄膜表面时，部分光线被反射，部分光线则穿透薄膜并在其底部或界面处再次反射。这些反射光线之间会发生干涉，形成明暗相间的干涉条纹或干涉环。干涉环的数量和形状与薄膜的厚度密切相关，通过测量这些干涉环的特性，可以计算出薄膜的厚度。
干涉膜厚仪广泛应用于半导体、光电子、光学、化学等领域。其中，半导体制造过程中需要对薄膜的厚度进行测量，从而保证产品的质量稳定性和生产效率的提升；光电子领域中，干涉膜厚仪也常用于光学元件的制造过程中，如镜片的制作、光纤光源的检测等；化学实验室中，干涉膜厚仪可以用于测量钢铁、塑料等各种材料表面的膜厚度，以确定其品质。
