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1.监测惰性气体(如氮气、氩气、氢气)中的残余氧含量;
2.控制反应釜、储罐、管道在置换或保护过程中的氧浓度;
3.防止因氧浓度过高引发燃烧或爆炸(尤其在氢气、烃类环境中);
4.保障高纯工艺气体(如电子特气)的品质;
5.锂电池注液、化成等工序中的气氛保护监控。
微量防爆氧分析仪通常采用以下传感技术之一:
1.电化学(燃料电池型)传感器
氧气在阴极被还原,产生与氧浓度成正比的电流;
优点:成本低、功耗小、线性好;
缺点:寿命有限(通常1–3年),易受酸性/碱性气体干扰;
适用范围:0–10 ppm至0–1000 ppm。
2.氧化锆(ZrO?)高温传感器
利用氧化锆在高温下对氧离子的导电性,通过能斯特方程计算氧分压;
优点:响应快、寿命长、耐高温;
缺点:需加热至650℃以上,功耗高,不适合超低ppm测量;
多用于百分比级或高ppm氧分析,较少用于“微量”场景。
3.激光光谱法(TDLAS)
采用可调谐二极管激光吸收光谱技术,针对氧分子特定吸收线进行检测;
优点:无需采样、无消耗、精度高(可达ppb级)、抗干扰强;
缺点:成本高,对光学窗口清洁度要求高;
适用于高要求工业现场或半导体洁净室。
为满足危险场所使用要求,仪器必须通过国家或国际防爆认证:
1.隔爆型(Ex d):外壳能承受内部爆炸而不引燃外部环境;
2.本安型(Ex i):电路能量限制在无法点燃爆炸性混合物的水平;
常见认证:中国NEPSI/CNEX、欧盟ATEX、国际IECEx;
通常整机(包括传感器、接线盒、显示单元)均需取得相应防爆等级(如Ex d IIC T6或Ex ia IIC T4)。
1.测量范围:常见0–10 ppm、0–100 ppm、0–1000 ppm(可定制);
2.分辨率:0.1 ppm或更高;
3.精度:±1%FS或±0.1 ppm(取大者);
4.响应时间(T90):<30秒(取决于采样系统);
5.输出信号:4–20 mA、RS485(Modbus)、HART等;
工作环境:温度-20℃~+60℃,湿度<90%RH(无冷凝)。
1.石化行业:乙烯装置、聚烯烃反应器氮气置换后的氧残留监测;
2.煤化工:合成气、氢气管网中的氧杂质控制;
3.锂电池工厂:注液房、干燥房内氮气保护气氛的氧含量监控(要求≤10 ppm);
4.半导体制造:CVD、PVD工艺腔体吹扫气体纯度验证;
5.空分装置:高纯氮/氩产品中微量氧在线检测。
1.确认防爆区域等级(如Zone 1/Zone 2,Class I Div 1等),选择对应认证的型号;
2.注意采样系统设计:使用不锈钢或钝化管路,避免吸附或渗透引入误差;
3.定期校准:使用高纯氮(零点)和标准氧/氮混合气(量程点)进行两点校准;
4.避免交叉干扰:如氯气、硫化氢、高浓度CO2可能影响电化学传感器寿命;
5.优先选择带自动标定或诊断功能的智能仪表,提升运维效率。