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紫外清洗机是一种利用紫外线（特别是短波长的UVC，波长通常为185 nm和254 nm）对物体表面进行清洁、杀菌或有机污染物分解的设备。
1.对无机污染物（如金属离子、颗粒）无效；
2.清洗深度有限，仅作用于表面几纳米至几十纳米；
3.需在通风良好或密闭系统中使用（因臭氧有毒）。
1.无接触、无溶剂：避免二次污染或机械损伤。
2.适用于精密器件：如晶圆、光学镜片、微电子元件等。
3.环保节能：不产生废液，操作相对简单。
1.UVC紫外线对人体皮肤和眼睛有害，操作时需屏蔽防护；
2.185 nm产生的臭氧需通过排风或催化分解处理；
3.设备应配备联锁装置，防止误开启。
紫外清洗主要依赖两种机制：
1.光分解作用（Photolysis）：
185nm的紫外线可使空气中的氧气（O2）分解生成臭氧（O3）。
臭氧具有强氧化性，能与有机污染物反应，将其氧化成挥发性物质（如CO2和H2O）。
2.直接光解与激发作用：
254nm的紫外线可直接打断有机分子中的化学键（如C–C、C–H、C–O等），使其分解。
同时，该波长也能破坏微生物（细菌、病毒等）的DNA/RNA结构，实现杀菌效果。
这两种波长常配合使用，形成“紫外-臭氧清洗”（UV-Ozone Cleaning）过程，高效去除表面有机残留物，且无需使用化
1.半导体前道工艺中的晶圆表面预处理；
2.OLED/LED制造中的ITO玻璃清洗；
3.实验室载玻片、培养皿的有机残留去除；
4.医疗器械表面消毒（需符合相关安全标准）；
5.纳米材料制备前的基底清洁。
