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1.非破坏性测量
采用X射线荧光(XRF)原理,无需切割、刮擦或溶解样品,测试后产品可直接用于后续生产或出货,特别适合高价值电子元器件、连接器、PCB金手指等成品检测。
2.高精度与高灵敏度
可精确测量极薄的金层,典型分辨率达0.001微米(1纳米),常规精度在±0.01微米以内,满足电子行业对金厚控制严苛的要求(如0.05–1.0μm范围)。
3.快速高效
单次测量通常只需几秒至十几秒,操作简便,一人即可完成批量抽检,大幅提升质检效率,适用于生产线在线或来料快速筛查。
4.支持多层镀层分析
能同时识别并分别计算多层结构的厚度,例如常见的“铜基体→镍底层→金面层”(Cu/Ni/Au),自动分离各元素信号,避免镍层对金厚测量的干扰。
5.微区精准定位
高端机型配备高分辨率CCD摄像头、激光十字定位和可更换准直器,可将测量光斑缩小至Φ0.1 mm甚至更小,精准对准细小焊盘、引脚或窄金手指,避免邻近区域干扰。
6.操作智能化
多数设备采用彩色触摸屏界面,内置标准曲线库,支持一键测量、数据存储、SPC统计分析、USB/蓝牙导出,部分型号可连接MES系统实现质量数据追溯。
7.适用材料广泛
不仅可测金(Au),还能同步分析其他镀层如镍(Ni)、银(Ag)、锡(Sn)、钯(Pd)等,一台设备满足多种电镀工艺检测需求。
8.安全可靠
X射线剂量极低,符合国家Ⅲ类射线装置管理标准,具备多重安全联锁(如开盖自动关闭X光管、紧急停止按钮),正常使用无辐射危害。
9.无需复杂前处理
样品只需表面清洁、平整放置即可测量,无需抛光、腐蚀或制作截面,节省时间和人力成本。
10.长期稳定性好
采用固态探测器和稳定X光管,配合温控设计,确保长时间运行下测量结果重复性高,减少频繁校准需求。
镀金测厚仪主要基于以下两种物理原理:
1.X射线荧光法(XRF)
最主流、最常用的技术。
仪器发射X射线照射样品,镀金层受激发后产生特征X射线荧光。
通过检测金(Au)元素荧光强度,并与已知标准片比对,计算出镀层厚度。
优点:无需接触、不损伤样品、可测多层(如Ni/Au、Cu/Ni/Au)、精度高(可达0.01μm)。
局限:对极薄金层(<0.025μm)或复杂曲面测量误差增大;需标准片校准。
2.库仑法(电解法)
通过电解溶解镀金层,根据电量消耗计算厚度(依据法拉第定律)。
优点:精度极高,适用于仲裁或认证检测。
缺点:破坏性测试,仅适合可牺牲样品;操作复杂、速度慢。
多用于实验室,工业现场较少采用。
日常生产中,XRF镀金测厚仪是首选。
1.测量范围与精度
镀金层通常很薄,常见范围为0.025μm至5μm(电子行业多为0.05–1.0μm)。
要求仪器最小分辨率≤0.01μm,重复性误差<5%。
2.基材类型兼容性
不同基材(铜、镍、铁、塑料、陶瓷)对X射线吸收不同,需仪器支持自动识别或手动选择基材类型。
若常测“铜上镀镍再镀金”(Cu/Ni/Au),必须选择多层分析功能机型。
3.测量spot尺寸(光斑大小)
连接器引脚、焊盘等微小区域需小光斑(如Φ0.1 mm、Φ0.2 mm)。
普通机型光斑为Φ1–3 mm,无法准确测量细小结构。
高端机型配备准直器切换或CCD定位+激光瞄准,实现精准对焦。
4.操作便捷性
推荐带彩色触摸屏、摄像头实时成像、自动对焦功能,便于定位微小测试点。
支持数据存储、USB导出、SPC统计分析,便于质量追溯。
5.安全与合规
XRF设备含微量辐射源,必须具备:
安全联锁装置(开盖自动断射线)
符合国家《射线装置分类办法》(通常为Ⅲ类,豁免管理或备案即可)
提供辐射安全检测报告
1.样品放置平整:倾斜会导致X射线路径变化,影响结果。
2.清洁表面:油污、氧化膜会吸收X射线,造成读数偏低。
3.定期校准:使用与被测样品材质、结构相近的标准片(如Cu/Ni/Au标样)进行校准。
4.避免强磁场/震动:影响探测器稳定性。
5.人员培训:虽为低风险设备,操作者仍需了解基本辐射防护知识。
1.每日:清洁样品台、镜头窗口(用无绒布+酒精)。
2.每月:检查X射线管状态、校准零点。
3.每年:送计量院或厂家进行性能验证与辐射安全检测。
1.电子制造业:测量IC引脚、连接器触点、PCB金手指的镀金厚度,确保导电性与焊接可靠性。
2.电镀厂:在线监控镀金工艺稳定性,避免过镀(浪费金)或欠镀(性能不足)。
3.质检与第三方实验室:来料检验、失效分析、符合RoHS/REACH等法规要求。
4.珠宝行业:检测K金饰品表面镀层(但需注意合金成分干扰)。
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