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TDC-200膜层控制仪在线测量和控制镀膜的速率和膜层的厚度，具有闭环控制沉积速率，与光学控制设备配合使用，可完成复杂的光学镀膜。本仪器可以控制单层或多层膜的沉积，通过对沉积工艺的数字化控制，大幅提高镀膜的质量和可重复性。可使用全自动模式来完成复杂膜系的制备，同时又提供了半自动和手动的控制方式，与自动化程度不同的镀膜设备协同工作。
TDC-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面,易于使用。配备256x128大型图形点阵LCD，低功耗LED背光，整屏显示内容多，并支持滚屏，用户编程和操作方便快捷。
TDC-200膜层控制仪具有5个可编程工艺膜系，每个工艺膜系最多能设定99层，共计495个膜层。包含一个267种材料的材料参数库，其中已定义的材料为257种，未定义的材料10种，可由用户自行设定。
TDC-200膜层控制仪可支持标准单探头、带挡板单探头和带挡板双探头。
TDC-200膜层控制仪配备了RS-232工业标准通信接口，配合本公司提供的计算机控制软件，方便用户在计算机上进行膜系编程，通过计算机进行数据采集和数据分析，实现远程控制。用户也可根据本公司提供的通信协议进行二次开发，在自行设计的软件中集成测量和控制功能，可方便地实现系统集成。
TDC-200膜层控制仪具有16个独立输入/输出端口。具有两个高精度的源控制电压输出，以配合有两个源的真空镀膜设备，特别是在进行多层镀膜时，大大提高了控制精度,进而提高镀膜质量。
