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TDC-200膜层控制仪阅读:1491

  TDC-200膜层控制仪在线测量和控制镀膜的速率和膜层的厚度,具有闭环控制沉积速率,与光学控制设备配合使用,可完成复杂的光学镀膜。本仪器可以控制单层或多层膜的沉积,通过对沉积工艺的数字化控制,大幅提高镀膜的质量和可重复性。可使用全自动模式来完成复杂膜系的制备,同时又提供了半自动和手动的控制方式,与自动化程度不同的镀膜设备协同工作。

目录

编程

  TDC-200型膜层控制仪采用全中文人机操作界面,易于使用。配备256x128大型图形点阵LCD,低功耗LED背光,整屏显示内容多,并支持滚屏,用户编程和操作方便快捷。
  TDC-200膜层控制仪具有5个可编程工艺膜系,每个工艺膜系最多能设定99层,共计495个膜层。包含一个267种材料的材料参数库,其中已定义的材料为257种,未定义的材料10种,可由用户自行设定。

配置

  TDC-200膜层控制仪可支持标准单探头、带挡板单探头和带挡板双探头。
  TDC-200膜层控制仪配备了RS-232工业标准通信接口,配合本公司提供的计算机控制软件,方便用户在计算机上进行膜系编程,通过计算机进行数据采集和数据分析,实现远程控制。用户也可根据本公司提供的通信协议进行二次开发,在自行设计的软件中集成测量和控制功能,可方便地实现系统集成。
  TDC-200膜层控制仪具有16个独立输入/输出端口。具有两个高精度的源控制电压输出,以配合有两个源的真空镀膜设备,特别是在进行多层镀膜时,大大提高了控制精度,进而提高镀膜质量。

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