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石英晶体膜厚控制仪具有先进的电子学，具有精确的过程控制，尤其用于低淀积率，在10读值／秒时的分辨率为±0.03Hz，在0至50°C温度范围内的频率稳定性为±2ppm。用单传感器或多传感器监测源材料，提供精确的源分布监测。
石英晶体膜厚控制仪适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。石英晶体膜厚控制仪可满足即使最复杂、最高要求与特殊应用的需要。它擅长于过程控制、逻辑功能、程序和膜层储存容量、过程数据管理，尤其是沉积速率与膜厚的控制。
◆ 频率分辨率：在6.0 MHz时0.03 Hz
◆ 质量分辨率：0.375 ng／cm2
◆ 感应晶片频率：2.5， 3， 5， 6， 9.5， 10 MHz
◆ 膜厚显示：0.000～ 999.9 K＆Aring；
◆ 成膜速率：00.0～999 Ang／sec (0～9.99μm／min)
◆ 膜层数量：1～999
◆ 图形显示：256×64 LCD ，CCFL背景照明
◆ 全套配置
◆ MDC360C主机 一台、振荡器及电缆线 一套、探头 一个、晶片 5片
◆ 主机尺寸：16.98×3.47×9.355(单位：英寸)、前面板宽度18.98英寸
1、标准RS-232和USB（有以太网选件）。
2、贮存容量高至100个工艺过程，1，000个膜层，50个膜系。
3、用单传感器或多传感器监测源材料，提供精确的源分布监测。
4、高亮度，VGA活性点阵彩色LCD显示器–可显示英文或中文。
5、易设置和操作，有“快速设置”菜单，6个上下文-敏感的按钮，和方便的参数设定旋钮。
6、Window程序用于开发，测试，和下载工艺过程，和将仪器数据记录至您的PC上，用于过程分析与质量控制。
7、精确的过程控制，尤其用于低淀积率，在10读值／秒时的分辨率为±0.03Hz，在0至50°C温度范围内的频率稳定性为±2ppm。
